1988, 10(3): 285-288.
摘要:
本文描述一種用LPCVD方法淀積Si3N4形成太陽(yáng)電池減反射膜(AR)同時(shí)又制得高效率硅太陽(yáng)電池鋁合金高低結(jié)背面場(chǎng)(BSF)的新工藝。該工藝不僅簡(jiǎn)化了太陽(yáng)電池的制作過(guò)程,即電池的AR和BSY一次形成,而且由于系統(tǒng)處于高真空,電池處在N2和H2的氣氛中,所以改善了太陽(yáng)電池發(fā)射區(qū)的表面特性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:為獲得較好的電池性能,在完成電池的AR和BSF時(shí),厚的鋁膜,較高的淀積Si3N4溫度以及在電池發(fā)射區(qū)表面生長(zhǎng)80100的SiO2層是必要的。