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1987年  第9卷  第5期

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論文
廣義散射參數(shù)及其應(yīng)用
顧墨琳
1987, 9(5): 385-394.
摘要:
本文闡明微波網(wǎng)絡(luò)中功率波、可交換功率、功率波反射系數(shù)和廣義散射參數(shù)等的物理概念,并加以推廣。通過若干應(yīng)用實例說明上述工具對處理微波有源網(wǎng)絡(luò)(特別是包含負(fù)阻電路)問題的有效性。
一個開關(guān)電容電路的模擬和優(yōu)化程序
陸躍, 沈永朝
1987, 9(5): 395-403.
摘要:
本文介紹了一個以分析開關(guān)電容(SC)電路為目的面向用戶的通用程序。該程序可以完成對SC電路的時域、頻域和靈敏度模擬,可以對SC電路進行多目標(biāo)優(yōu)化,并可以求得SC電路的傳輸極點,且對電路的輸入信號、開關(guān)序列、網(wǎng)絡(luò)拓?fù)錄]有限制,文中提出了在改進節(jié)點法基礎(chǔ)上求出電路傳輸極點的方法,以貢獻的方式建立求傳輸函數(shù)對電容比的靈敏度方程,通過線性變換求得對電容比的靈敏度的方法和SC電路的多目標(biāo)優(yōu)化方法。最后給出了用該程序?qū)C電路進行模擬和優(yōu)化的兩個算例。
高準(zhǔn)確度對數(shù)函數(shù)電路的探討和實現(xiàn)
孔俊寶
1987, 9(5): 404-412.
摘要:
本文敘述了一個具有高準(zhǔn)確度的對數(shù)函數(shù)和通帶較寬的對數(shù)放大器。該放大器用RC充放電的指數(shù)函數(shù)和脈寬調(diào)制的方法,提高了對數(shù)函數(shù)的準(zhǔn)確度,從而可以解決天文、宇航、精確測量和通信等方面的很多關(guān)鍵問題。 根據(jù)RC充放電電壓與時間的指數(shù)關(guān)系,再將時間用脈沖調(diào)制轉(zhuǎn)換成電壓,就構(gòu)成了輸入輸出的對數(shù)關(guān)系。使用取樣定理、香農(nóng)基礎(chǔ)信道容量公式和多級放大帶寬公式等,對該系統(tǒng)進行了理論分析。搭試了一個具體電路,取得了系統(tǒng)特性數(shù)據(jù),證實了該系統(tǒng)的對數(shù)函數(shù)準(zhǔn)確度可達99%以上。
相關(guān)高斯噪聲自適應(yīng)非參量檢測器
陸林根
1987, 9(5): 413-419.
摘要:
本文討論了相關(guān)高斯噪聲自適應(yīng)非參量檢測器。當(dāng)輸入噪聲的采樣滿足獨立、同分布(IID)條件時,不管分布是什么形式,非參量檢測器均能保持虛警概率恒定(CFAR)。但是,許多類噪聲并不能保持IID條件,檢測器也就無法保持CFAR。本文提出一種簡單、可行的自適應(yīng)非參量檢測器,能自動調(diào)節(jié)門限,使虛警概率(Pfa)趨于恒定。這種方法的關(guān)鍵在于用遞歸濾波器的輸出值來測量噪聲的相關(guān)系數(shù)(Pd),并由此改變秩值檢測器的檢測單元的權(quán),使其Pfa趨于恒定。從而使在一定信噪比條件下發(fā)現(xiàn)概率(Pd)也趨于恒定。本文給出檢測單元加權(quán)的非參量檢測器的檢測性能和漸近性能,然后還給出自適應(yīng)非參量檢測器的近似計算方法和計算機模擬結(jié)果。
Si(100)和(111)面和在其上Ni分子束外延的反射高能電子衍射研究
高銘臺
1987, 9(5): 420-427.
摘要:
以反射高能電子衍射的方法研究了用Ar+離子轟擊和高溫處理技術(shù)獲得的潔凈的Si(100)和(111)面,以及在室溫下這些表面上分子束外延生長鎳硅化物。實驗獲得了Si(111)77以及它的負(fù)區(qū)衍射圖,Si(100)21,Si(111)1919Ni和Si(100)42Ni的表面結(jié)構(gòu)。實驗同時表明,在低外延生長速率下(0.150.5/min)生成的鎳硅化物的晶格結(jié)構(gòu)與硅基底的一樣。
液相外延HgCdTe的研究
王雷, 高鼎三, 吳仰賢
1987, 9(5): 428-434.
摘要:
本文對液相外延生長HgCdTe及其汞壓控制進行了研究。在理論上對開管滑動系統(tǒng)中汞損失的影響作了分析和計算,提出了準(zhǔn)平衡汞壓的方法。在實驗中設(shè)計制作了獨特的汞回流裝置,實現(xiàn)了對汞壓的控制。通過生長工藝的條件實驗,得到了各工藝參數(shù)影響外延片性能的關(guān)系,制備出表面光亮,組分為x=0.2110.002,x=0.280.001的Hg1-xCdxTe外延片。在77K下n型(未退火)和P型外延片的遷移率分別為3.36105cm2/Vs和1.81103cm2/Vs,載流子濃度分別為1.091015cm-3和1.041016cm-3。
InGaAsP/InP雙異質(zhì)結(jié)發(fā)光管暗缺陷的觀察和研究
張桂成, 沈彭年
1987, 9(5): 435-440.
摘要:
用紅外電視選行掃描儀觀察由不同P型摻雜劑的外延片制成的InGaAsP/InP雙異質(zhì)結(jié)發(fā)光管的暗缺陷,并研究了它的來源。比較了P型摻雜劑的種類和摻雜濃度對暗結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明,摻Mg和摻In-Zn合金與重?fù)絑n器件相比,暗結(jié)構(gòu)比例明顯降低。Zn可能是暗缺陷的重要來源之一。器件在70℃,85℃條件下老化2000小時后,老化前無暗缺陷的某些器件亦有暗結(jié)構(gòu)產(chǎn)生,但其生長率很慢。
雙重入腔的場計算
李鎮(zhèn)淮, 宋文淼
1987, 9(5): 441-450.
摘要:
本文用經(jīng)典的場匹配方法計算了雙重入腔的本征頻率。結(jié)果表明對于漂移咀規(guī)則的重入腔,采用分區(qū)場匹配的經(jīng)典方法仍有明顯的優(yōu)點,它既可以保證很高的精度,又只需要很少的計算量。
用于探測能量為0.110keV光子的夾心結(jié)構(gòu)CsI光陰極
談凱聲
1987, 9(5): 451-457.
摘要:
為了穩(wěn)定而有效地探測能量范圍在0.110keV之間的軟X射線,研制并優(yōu)化了一種高低密度夾心結(jié)構(gòu)的透射式CsI光陰極。它的光子探測效串大約是高密度透射式CsI光陰極的110倍。所測得的光電發(fā)射次級電子能量分布曲線與高密度CsI光陰極類似,半極限值的全寬度(FWHM)不到2eV。由于它的量子效率高而次級電子能量分布范圍相當(dāng)窄,這種夾心結(jié)構(gòu)透射式CsI光陰極廣泛地應(yīng)用于軟X射線探測器和計數(shù)器,特別是軟X射線條紋攝相管。
微波放電等離子體源的研究
吳錦發(fā), 張二力, 甄漢生, 管祚堯
1987, 9(5): 458-464.
摘要:
利用電子迴旋共振(ECR)的原理,在10-310-1Pa的低壓強下,已成功地產(chǎn)生了高活性,高密度的微波等離子體。運用靜電探針裝置,研究了N2、Ar放電中微波功率、氣體壓強對等離子體參量的影響,并對放電等離子體進行了質(zhì)譜分析。
研究簡報
回旋管輸出窗頻率特性的研究
羅積潤, 徐承和, 張世昌, 洪文潔
1987, 9(5): 465-468.
摘要:
本文對回旋管輸出窗系統(tǒng)的傳輸特性進行了理論研究,給出了圓波導(dǎo)徑向突變的模式散射的近似公式,研究了輸出窗對工作模式的反射和寄生模式的散射的頻率響應(yīng)。實驗證實分析是合理的。
鉛玻璃微通道板芯料的腐蝕和掃描電鏡檢測
文宛生
1987, 9(5): 469-472.
摘要:
本文用親電性腐蝕液、靜置腐蝕法腐蝕實芯絲鉛玻璃微通道板的芯料,并用掃描電鏡和X射線能譜儀分析其形貌和化學(xué)成份。結(jié)果表明,用本腐蝕法可獲得內(nèi)壁光滑、增益高、噪聲低的通道板。 文中還提出了一種測量腐蝕速度的新方法。測量結(jié)果可靠、重復(fù)性好。
用堆集掩模技術(shù)制造變厚超導(dǎo)微橋
時賢慶, 楊彩炳, 祁宜芝, 曹效能, 馬金娣, 黃繼章
1987, 9(5): 473-476.
摘要:
本文介紹了一種制作變厚超導(dǎo)微橋的新方法。用此方法變厚超導(dǎo)微橋通過一次光刻、用三個坩堝、不必打開鍍膜機就能制成。利用普通接觸式紫外曝光設(shè)備和斜蒸發(fā)技術(shù),使橋區(qū)達到亞微米尺寸。并獲得了無迴滯的直流I-V特性。
電子束成象制作圖形的新方法探索
孫毓平
1987, 9(5): 477-480.
摘要:
本文介紹了利用電子束成象在硅襯底上的薄二氧化硅膜中制作圖形的一種新方法。所得的電子象,利用聚脂型反應(yīng)媒介物并通過氫氟酸汽相腐蝕,不僅可以在二氧化硅膜上形成正圖形,而且可以形成負(fù)圖形。