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1982年  第4卷  第1期

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論文
陰極電子學的過去現(xiàn)在和將來
張恩虬
1982, 4(1): 1-7.
摘要:
本文討論陰極電子學與物理學基礎(chǔ)理論間的相互關(guān)系。從體效應(yīng)中總結(jié)出來的固體理論,不能有效地解釋電子發(fā)射的問題,因為電子發(fā)射主要地來源于表面。另一方面,各種形式的電子發(fā)射可用作探測固體表面的手段,對建立表面科學提供更多的信息。此外,文中對陰極電子學的性質(zhì)和發(fā)展概況也作了論述。
緩變截面波導腔的理論及其應(yīng)用
錢景仁
1982, 4(1): 8-19.
摘要:
本文從廣義電報方程出發(fā),在確定的邊界條件和連續(xù)性條件下,得到了緩變截面波導腔中振蕩模的諧振頻率、品質(zhì)因數(shù)和場分布的公式。著重研究了開放式緩變圓截面波導腔中HORP模振蕩,特別是這些模在開口處的衍射損耗;最后對常用的一種雙圓錐開放腔體進行了分析,得到了一組較為通用的諸振頻率和品質(zhì)因數(shù)的曲線。已有的實驗證實了曲線的可靠性。
三相橋式整流電路短路電流的計算方法
樊元武
1982, 4(1): 20-34.
摘要:
本文介紹三相橋式整流電路內(nèi)、外部短路電流的計算方法.文中分暫態(tài)過程及穩(wěn)態(tài)過程兩部分,其中一部分分析方法是作者提出的.根據(jù)文中所介紹的計算方法,繪制了數(shù)種實用曲線,供讀者參考使用.
關(guān)于阿爾法微型計算機系統(tǒng)初始化命令文件的討論和改進
江鈞基
1982, 4(1): 35-45.
摘要:
本文通過對阿爾法微型計算機的系統(tǒng)初始化命令文件的探討,提出縮小操作系統(tǒng)的方法,指出原文件中存在的一些問題并提出了改進的措施。改進后的文件可使該機在帶有5個終端和5個作業(yè)的情況下,操作系統(tǒng)的大小小于16K字節(jié)。提出了兩種消除因用戶使用MEMORY0命令而引起的機器工作不正常的方法。給出了一個新文件的實例及其實驗結(jié)果。此外,還從實用的角度出發(fā),論討了這種計算機最大可帶的終端數(shù)和作業(yè)數(shù)。
提高9顯象管邊緣分辨率的實驗研究
戴榮欣
1982, 4(1): 46-52.
摘要:
本文從分析9顯象管電子槍的結(jié)構(gòu)特點出發(fā),討論了影響熒光屏上電子束光點尺寸的三個主要因素:透鏡放大率、球面象差和空間電荷效應(yīng)。提出了用減小調(diào)制極孔徑,增大調(diào)制極與加速極之間的距離等方法來減小電子束最小交叉截面的尺寸和電子束的發(fā)散張角;并且以調(diào)整電子槍在顯象管內(nèi)的位置,即增大它與偏轉(zhuǎn)線圈之間的相對距離,來減小偏轉(zhuǎn)線圈雜散磁場所引起的偏轉(zhuǎn)散焦;從而有效地改善了整管的聚焦性能,并明顯地提高了邊緣部分的分辨率。 試驗結(jié)果和批量生產(chǎn)的管子測試表明:上述方法是卓有成效的,其邊緣分辨率能提高50線以上。
光泵CF4 16微米激光器
伍始一
1982, 4(1): 53-59.
摘要:
本文介紹了由TEA CO2激光器的9R(12)躍遷線泵浦冷卻的 CF4分子,獲得 16m激光輸出。泵浦光用限孔光闌得到TEMoo單橫模,由低氣壓CO2增益池壓縮線寬,并與光泵腔良好的模式匹配下,以700mJ的泵浦源能量獲得25mJ左右的16m激光輸出能量。光量子轉(zhuǎn)換效率達7%左右。激光脈寬窄于150ns,該器件可在約0.5Hz重復率下,以20mJ的輸出能量運轉(zhuǎn)數(shù)千次。
微通道板的研制
張多明, 王毓華, 章玉林
1982, 4(1): 60-68.
摘要:
通道式電子倍增器矩陣(CEMA)又稱微通道板(MCP)是由特殊玻璃制成的單通道電子倍增器平行排列成的。MCP是多種帶能粒子和光子的探測器,它可以提供一個增益高和均勻性好的大的工作面。 本文概述了MCP的工作原理,介紹了制造MCP的主要工藝,簡要討論了MCP的基本參數(shù)和應(yīng)用。
研究簡報
一種高可靠長壽命陰極
廖顯恒, 黃慧芬, 湯卞玉, 萬小文
1982, 4(1): 69-70.
摘要:
正 空間技術(shù)的發(fā)展向電子器件提出了高可靠、長壽命的要求,這又使電子器件向陰極提出了同樣的要求。在國外,解決的辦法是,使用以鋯鎳或鎢鋯鎳作基金屬的氧化物陰極,再加上高水平的造管工藝等措施來保證電子器件的高可靠和長壽命。我們根據(jù)當前國內(nèi)
高場強熒光屏的研制
朱國民, 歐陽行倉, 劉桂英
1982, 4(1): 71-72.
摘要:
正 倒象式第二代微光管和雙近貼式第二、第三代微光管,對熒光屏提出了新的特殊要求,這就是除達到成象器件所需要的高亮度、高分辨率外,為了保證高象質(zhì),還必須能夠在高電場強度下正常工作而不被破壞