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用光電靈敏度法研究a-Si:H中的電荷放大效應

海宇涵 海灝 奚中和 張薔

海宇涵, 海灝, 奚中和, 張薔. 用光電靈敏度法研究a-Si:H中的電荷放大效應[J]. 電子與信息學報, 1999, 21(5): 686-691.
引用本文: 海宇涵, 海灝, 奚中和, 張薔. 用光電靈敏度法研究a-Si:H中的電荷放大效應[J]. 電子與信息學報, 1999, 21(5): 686-691.
Hai Yuhan, Hai Hao, Xi Zhonghe, Zhang Qiang. INVESTIGATION OF CHARGE INTENSIFICATION EFFECT IN a-Si:H BY MEANS OF PHOTOELECTRIC SENSITIVITY METHOD[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1999, 21(5): 686-691.
Citation: Hai Yuhan, Hai Hao, Xi Zhonghe, Zhang Qiang. INVESTIGATION OF CHARGE INTENSIFICATION EFFECT IN a-Si:H BY MEANS OF PHOTOELECTRIC SENSITIVITY METHOD[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1999, 21(5): 686-691.

用光電靈敏度法研究a-Si:H中的電荷放大效應

INVESTIGATION OF CHARGE INTENSIFICATION EFFECT IN a-Si:H BY MEANS OF PHOTOELECTRIC SENSITIVITY METHOD

  • 摘要: 測量了縫電極和梳形電極a-Si:H樣品的光伏安特性和光電靈敏度,提出了由光電靈敏度計算電荷放大增益的方法。由此法測出的a-Si:H的電荷放大增益,在105V/cm電場下,高達4.3103。本文從能態(tài)圖討論了a-Si:H中電荷放大效應的產(chǎn)生過程。由測量的增益值計算了電子遷移率與壽命之積。
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  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1997-04-29
  • 修回日期:  1999-01-18
  • 刊出日期:  1999-09-19

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