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鉬基和鉿基上濺射碳膜的某些特性

畢建明 曹蘊(yùn)珠 陳銳 青先澤

畢建明, 曹蘊(yùn)珠, 陳銳, 青先澤. 鉬基和鉿基上濺射碳膜的某些特性[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1990, 12(1): 103-108.
引用本文: 畢建明, 曹蘊(yùn)珠, 陳銳, 青先澤. 鉬基和鉿基上濺射碳膜的某些特性[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1990, 12(1): 103-108.
Bi Jiangming, Cao Yunzhe, Chen Rui, Qing Xianze. PROPERTIES OF SPUTTERED CARBON FILMS ON Mo AND Hf SUBSTRACTES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 103-108.
Citation: Bi Jiangming, Cao Yunzhe, Chen Rui, Qing Xianze. PROPERTIES OF SPUTTERED CARBON FILMS ON Mo AND Hf SUBSTRACTES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 103-108.

鉬基和鉿基上濺射碳膜的某些特性

PROPERTIES OF SPUTTERED CARBON FILMS ON Mo AND Hf SUBSTRACTES

  • 摘要: 微波管電極表面涂復(fù)碳膜能改善管子性能。本文介紹了采用高頻濺射熱解石墨的方法在Mo基和Hf基上形成碳膜的一些研究情況。包括碳膜的制造、成分分析,次級(jí)發(fā)射性能和熱輻射特性以及在真空系統(tǒng)中隨溫度上升釋放氣體的質(zhì)譜分析等。主要結(jié)果有:(1)復(fù)碳鉬有明顯的吸氧效應(yīng);(2)鉬、鉿上復(fù)碳后次級(jí)發(fā)射系數(shù)降為max 0.7;(3)高溫時(shí)(930℃)鉬基上的碳膜會(huì)很快消失,但鉿基上的碳膜到1050℃仍無(wú)明顯變化;(4)復(fù)碳鉬在高溫時(shí)有一定量的CH4形成。
  • A. Shik, C. R. K. Marrian, G. A. Haas, Appl. Sur.Sci., 24(1985), 475-487.[2]Willian Peter, J. Appl. Phys., 56(1984), 1546-1547.[3]D. Ruzic, R. Moore, D. Manos, S. Cohen, J.Vac. Sci. Tech., 20(1982), 1313-1316.
  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1988-01-31
  • 修回日期:  1988-04-01
  • 刊出日期:  1990-01-19

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