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掃描電子束曝光機(jī)復(fù)合物鏡的研究與設(shè)計(jì)

夏善紅 朱協(xié)卿

夏善紅, 朱協(xié)卿. 掃描電子束曝光機(jī)復(fù)合物鏡的研究與設(shè)計(jì)[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1991, 13(2): 183-192.
引用本文: 夏善紅, 朱協(xié)卿. 掃描電子束曝光機(jī)復(fù)合物鏡的研究與設(shè)計(jì)[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1991, 13(2): 183-192.
Xia Shanhong, Zhu Xieqing. RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(2): 183-192.
Citation: Xia Shanhong, Zhu Xieqing. RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(2): 183-192.

掃描電子束曝光機(jī)復(fù)合物鏡的研究與設(shè)計(jì)

RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS

  • 摘要: 在綜合研究已有的各種復(fù)合物鏡(如移動(dòng)物鏡、變軸物鏡和擺動(dòng)物鏡等)的基礎(chǔ)上,本文對(duì)復(fù)合物鏡的一般理論進(jìn)行了探討,推導(dǎo)了普遍化計(jì)算公式,并提出新的復(fù)合物鏡(彎曲物鏡)系統(tǒng)。采用解析函數(shù)近似表示系統(tǒng)場(chǎng)分布,對(duì)彎曲物鏡系統(tǒng)象差進(jìn)行了理論分析,并設(shè)計(jì)出一個(gè)實(shí)際系統(tǒng)。數(shù)值計(jì)算結(jié)果給出該系統(tǒng)在55mm2掃描場(chǎng)內(nèi),束孔徑角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,橫向色差0.001m。
  • H. Ohiwa, et al., Electronics and Communications in Japan, 54-8(1971)12, 44.[2]H. C. Pfeiffer, G.O.Langner, J. Vac. Sci. Technol., 19(1981)4, 1058.[3]Chen Zhongwei, et al., Optik, 64(1983)4, 341.[4]M, A. Sturans, H. C. Pfeiffer, Proc. Microcircuit Engineering,1984, Academic Press,London, P. 107.[5][5][6]Qiao Yizheng, et al.,The Principle of Pendulum Combined Focusing and Deflection System, International Symposium on Electron Optics, Beijing, China, (1986), p. 207.[7]H. C. Chu, E. Munro, Optik, 81(1982)2, 121.
  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1989-02-13
  • 修回日期:  1989-04-29
  • 刊出日期:  1991-03-19

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