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DJ-2型可變矩形電子束曝光機(jī)電子光學(xué)設(shè)計(jì)

康念坎

康念坎. DJ-2型可變矩形電子束曝光機(jī)電子光學(xué)設(shè)計(jì)[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1992, 14(2): 176-183.
引用本文: 康念坎. DJ-2型可變矩形電子束曝光機(jī)電子光學(xué)設(shè)計(jì)[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1992, 14(2): 176-183.
Kang Niankan. ELECTRON OPTICAL COLUMN FOR VARIABLE RECTANGULAR-SHAPED BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM DJ-2[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(2): 176-183.
Citation: Kang Niankan. ELECTRON OPTICAL COLUMN FOR VARIABLE RECTANGULAR-SHAPED BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM DJ-2[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(2): 176-183.

DJ-2型可變矩形電子束曝光機(jī)電子光學(xué)設(shè)計(jì)

ELECTRON OPTICAL COLUMN FOR VARIABLE RECTANGULAR-SHAPED BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM DJ-2

  • 摘要: 本文討論可變矩形電子束曝光機(jī)的電子光學(xué)設(shè)計(jì),著重分析光路構(gòu)成和變形偏轉(zhuǎn)補(bǔ)償?shù)葐?wèn)題。DJ-2型機(jī)使用最少的透鏡數(shù)實(shí)現(xiàn)變形束曝光機(jī)的功能要求。為實(shí)現(xiàn)高速變形偏轉(zhuǎn),采用高靈敏度串接式平板靜電偏轉(zhuǎn)器,通過(guò)精確的線性補(bǔ)償和旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償,使靶上束斑電流密度和分辨率以及原點(diǎn)位置不受束斑尺寸改變的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,用發(fā)夾型鎢絲陰極時(shí)的束流密度大于0.4A/cm2;22mm掃描場(chǎng)內(nèi)邊緣分辨率優(yōu)于0.2m。
  • H. C. Pfeiffer, J. Vac. Sei. Technol., 15(1978)3, 887-890.[2]J. Trotel, J. Vac. Sci. Technol., 15(1978)3, 872-873.[3]E. Goto et al., J. Vac. Sci. Technol,, 15(1978)3, 883-886.[4]G. Cogswell et al., Electron lithography system with variable-shaped electron beam, Proc. 8th International[5]Conference on Electron and Ion Beam Science and Technology, Seattle, USA, (1978), pp. 117-133.[6]N. Saitou et al., J. Vac. Sci. Technol., 18(1981)4, 1087-1093.[7]M. Nakasuji et al., J. Vac. Sci. Technal., 19(1982)3, 872-878.[8]H. C. Chu(朱協(xié)卿) et al., Optik, 81(1982)2, 121-145.[9]A. V. Crewe, Optik, 92(1978)4, 337-346.[10]康念坎等,電子科學(xué)學(xué)刊,12(1990)2,161-168.[11]N. Saitou et al., J. Vac. Sci. Technol., B3(1985)1, 98-101.[12]R. D. Mooore et al., J. Vac. Set. Technol., 18(1981)4, 950-952.
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出版歷程
  • 收稿日期:  1991-03-30
  • 修回日期:  1991-06-17
  • 刊出日期:  1992-03-19

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